顆粒跟蹤分析儀相關理論及性能

平移擴散常數可通過直接觀測待測顆粒的布朗運動計算得到。通過測試電泳遷移率，可以得到zeta電位。

納米粒子跟蹤分析（NTA）和動態光散射（DLS）

所有的光散射儀器，包括粒子跟蹤技術，都存在一個問題：當顆粒大小低于100nm時，靈敏度會迅速的降低。動態光散射技術的zui低檢測限是0.5nm，對于納米顆粒跟蹤分析，其zui低檢測限是10nm。通常，DLS和NTA的主要區別就在于濃度范圍。對于DLS，當樣品濃度太低時，顆粒跟蹤分析儀可以非常圓滿的完成檢測任務。相反，對于高濃度的樣品，DLS方法會非常的適合。

 

顆粒跟蹤分析儀測量范圍

測量范圍依賴于樣品和儀器。對于金樣品，顆粒跟蹤技術的檢測下限為10nm；相應的，如果樣品的散射能力較弱，則檢測下限會變得更大。假如樣品穩定，不會沉淀或漂浮，zeta電位測量的粒徑上限為50微米，對于粒徑測量為3微米。

源于視頻分析的顆粒計數

顆粒濃度可通過視頻分析得到，并歸一化處理，散射體積對粒徑。可檢測的zui小濃度為105粒子/cm3，zui大為1010粒子/cm3。對于200nm的顆粒，zui大體積濃度為1000ppm。

 

顆粒跟蹤分析儀特點 - 全自動和無源穩定性

自動校準程序會持續工作，即便是樣品池被取出后。防震動設計提高了視頻圖像的穩定性。通過掃描多個子體積并進行平均，就可以得到可靠的統計結果。有3種測量模式可供選擇：粒徑，zeta電位和濃度。樣品池通道集成在一個插入式的盒子中，盒子可提供溫度控制以及同管理單元的耦合。

自動掃描，zui多可達100個子體積；

自動聚焦；

小巧，便于攜帶；

防震動；

光源從紫外線到紅光；

插入式樣品池；